Y dull cyfnod nwy pentyrru corfforol yw'r dull prif ffrwd ar gyfer paratoi haenau PVD, gan gynnwys cotio gwactod, sputtering magnetron a phlatio ïon arc, ac yn eu plith, pan ddefnyddir platio ïon i baratoi haenau PVD, mae'r gyfradd ïoneiddio yn uchel, mae'r gyfradd gronni yn gyflym, a bod yn fanteisiol, a bondio uchel. Fodd bynnag, mae gan y gorchudd PVD hwn lygredd gronynnau mawr, sy'n arwain at broblemau fel ymddangosiad cotio garw, ychwanegiad mandylledd, a swyddogaeth cotio ansefydlog, sy'n effeithio ar y defnydd o gwsmeriaid. Dyma sut i wella gorchudd PVD gyda gronynnau mawr.
1. Cyflwyno elfennau daear prin
Cyflwyno elfennau prin mewn targedau catod a haenau PVD i leihau gronynnau platio ïon a gwella dwysedd mân haenau, ac i wella priodweddau ffisegol a mecanyddol a phriodweddau tymheredd uchel y haenau trwy'r mecanwaith addasu daear prin, mae'r effaith yn amlwg. Mae prin y ddaear CE yn cael effaith amlwg ar leihau defnynnau, ac nid yn unig y mae gan y cotio PVD a addaswyd gan y Ddaear brin ddwysedd defnyn bach, ond mae ganddo hefyd lai o ddefnynnau mawr. Dylai'r rheswm dros wella cyflwr gronynnau cotio daear brin fod yn uniongyrchol gysylltiedig ag ansawdd metelegol targedau cynnydd prin y Ddaear.
Elfennau daear prin a ddefnyddir yn helaeth yw proses fetelegol CE ar gyfer degassing, desulfurizing, a chaledu rhinweddau deunyddiau metel. Gellir codi ansawdd ac ymarferoldeb metelegol y deunydd trwy gyflwyno'r elfen wanedig addas CE i'r nod. Ychydig o mandyllau, cyfansoddiad homogenaidd, a grawn mân y deunydd targed o ansawdd uchel sy'n helpu i fireinio'r gronynnau a gynhyrchir o'r catod. Efallai y bydd yn gostwng y posibilrwydd o ddarnio materol a tasgu yn rhanbarth pwll micromelt arc catod arc sy'n deillio o'r gwasgedd uchel a gynhyrchir gan ehangiad sydyn y nwy yn y pores caeedig ar dymheredd uchel. Trwy osgoi neu liniaru cwymp a hedfan deunyddiau wedi'u bondio'n wan sy'n deillio o feysydd trydan rhannol neu straen thermoelastig, gall y trefniant targed helpu i ostwng y genhedlaeth o ronynnau mawr. Ar wahân i CE, mae gan elfennau daear prin fel Y neu LA ddylanwad tebyg.
2. Y system electromagnetig newydd
Ystyriwyd y sgil hon o ddylunio targedau catod gwell ac opteg plasma. Y syniad yw dylunio strwythur maes magnetig newydd y tu mewn a'r tu allan i'r targed, gan gynnwys coil electromagnetig arbennig a magnet parhaol gyda strwythur penodol, fel ei fod yn ffurfio system maes magnetig bwaog ar y targed catod, er mwyn rheoli a rheoleiddio trac rhedeg y man cathod arc, cyflymu ei arwyneb ar yr amser preswylio.
3. Ychwanegu baffl i'r ddyfais
Mae'r dadansoddiad yn datgelu bod dosbarthiad pennaf y gronynnau mawr yn y rhanbarth ar ongl o 60 gradd i wyneb y targed arc; Felly, gellir gosod baffl o flaen targed yr arc i ostwng lefel llygredd haen y ffilm ronynnau fawr. Er bod maint gronynnau mawr yn llai na 2 μm, gostyngodd dwysedd y gronynnau mawr o 2.3 x 105\/mm2 i 1.4 x 103\/mm2 heb baffl yn sylweddol. Ond unwaith y bydd y baffl yn cael ei roi ar waith, mae pwrpas y cotio PVD yn dioddef yn ychwanegol at ostwng y gyfradd gronni.
4. Sgiliau cathod gwag
Yn y cotio PVD pentyrru arc ïon, cyflwynir y trawst electron a allyrrir gan y catod gwag i leihau maint gronynnau mawr y cotio a baratowyd, ond mae'r dull hwn yn gofyn am ychwanegu dyfais catod gwag yn yr offer platio ïon confensiynol.
5. Hidlydd magnetig arc
Mae'r dull o gyflwyno'r plasma i'r siambr gronni trwy ddefnyddio'r hidlydd magnetig ARC i wahanu'r gronynnau mawr o'r plasma wedi cael effaith dda, ond mae cyfradd gronni'r dull hwn yn llawer is na chyfradd platio ïon arc cyffredin.
Yr uchod yw cyflwyno'r dull o wella gronynnau mawr cotio PVD, wrth baratoi cotio PVD, gallwch gyfeirio at y pum dull uchod i sicrhau bod strwythur yr wyneb cotio yn iawn, mae'r mandylledd yn isel, ac mae'r priodweddau'n sefydlog, fel y bydd defnyddio effaith y gorchudd yn well.